వెట్ ప్రాసెస్ అల్యూమినియం హైడ్రాక్సైడ్

వెట్ ప్రాసెస్ అల్యూమినియం హైడ్రాక్సైడ్ (WPAH) అనేది "బాక్సైట్ లీచింగ్ గ్రేడియంట్ క్రిస్టలైజేషన్ మెమ్బ్రేన్ కప్లింగ్ ఇన్-సిట్ వెట్ మోడిఫికేషన్" యొక్క సమగ్ర ప్రక్రియ ద్వారా తయారు చేయబడిన అధిక-పనితీరు గల అకర్బన క్రియాత్మక పదార్థం (రసాయన సూత్రం Al(OH)₃). దీని ప్రధాన ప్రయోజనం క్రిస్టల్ సమగ్రత మరియు ఉపరితల కార్యకలాపాల యొక్క ద్వంద్వ నిలుపుదలలో ఉంది - సాధారణ క్రిస్టల్ నిర్మాణం, సమృద్ధిగా ఉన్న ఉపరితల హైడ్రాక్సిల్ సమూహాలు మరియు 99.99% కంటే ఎక్కువ అల్ట్రా-హై స్వచ్ఛతను సాధించడం మరియు ≤1.0μm యొక్క ఇరుకైన పంపిణీ కణ పరిమాణం నియంత్రణ. హై-ఎండ్ ఫ్లేమ్ రిటార్డెంట్, ఎలక్ట్రానిక్ సిరామిక్స్, లిథియం బ్యాటరీ సెపరేటర్‌లు, ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ మరియు ఇతర ఫీల్డ్‌లలో చొచ్చుకుపోయే రేటు సంవత్సరానికి పెరుగుతోంది, ముఖ్యంగా అశుద్ధ కంటెంట్, డిస్పర్షన్ పనితీరు మరియు పర్యావరణ సూచికల కోసం కఠినమైన అవసరాలతో కూడిన హై-ఎండ్ తయారీ దృశ్యాలకు అనుకూలం. డౌన్‌స్ట్రీమ్ ఎంటర్‌ప్రైజెస్ ఉత్పత్తి అప్‌గ్రేడ్‌లను సాధించడానికి మరియు ప్రత్యామ్నాయాన్ని దిగుమతి చేసుకోవడానికి ఇది ప్రధాన పదార్థంగా మారింది.

ప్రధాన బలాలు

1. గ్రేడియంట్ క్రిస్టలైజేషన్ మెమ్బ్రేన్ కప్లింగ్ ప్యూరిఫికేషన్ టెక్నాలజీ: అశుద్ధ కంటెంట్ యొక్క అంతిమ నియంత్రణ

-అశుద్ధ కంటెంట్ సున్నాకి చేరుకుంటుంది: Fe₂O₃≤0.5ppm,SiO₂≤1.2ppm,Na₂O≤3ppm, క్లోరైడ్ అయాన్ కంటెంట్<10ppm, మొత్తం అశుద్ధ కంటెంట్ ≤ 5ppm, స్వచ్ఛత 99.996% పొడిగింపును మించిపోయింది. 50ppm);

-రెగ్యులర్ క్రిస్టల్ స్ట్రక్చర్: ఏకరీతి స్ఫటిక స్వరూపం, 8-12m ²/g స్థిరమైన నిర్దిష్ట ఉపరితల వైశాల్యం, ≤± 3 ℃ యొక్క ఉష్ణ కుళ్ళిపోయే ఉష్ణోగ్రత యొక్క హెచ్చుతగ్గుల పరిధి మరియు గణనీయంగా మెరుగుపడిన ఫ్లేమ్ రిటార్డెంట్ పనితీరుతో ఒకే ట్రైహైడ్రేట్ అల్యూమినా క్రిస్టల్ రూపాన్ని ఉత్పత్తి చేస్తుంది;

-గ్రీన్ మరియు ఎనర్జీ-పొదుపు: మెంబ్రేన్ సెపరేషన్ టెక్నాలజీ సాంప్రదాయ వాషింగ్ ప్రక్రియలను భర్తీ చేస్తుంది, నీటి వనరుల వినియోగాన్ని 90% పెంచుతుంది, మురుగునీటి విడుదలను 90% తగ్గిస్తుంది మరియు సాంప్రదాయ ప్రక్రియలతో పోలిస్తే టన్ను ఉత్పత్తికి శక్తి వినియోగాన్ని 22% తగ్గిస్తుంది.

అనుకూలత కోసం శోధించండి: ఎలక్ట్రానిక్ సిరామిక్స్/లిథియం బ్యాటరీ సెపరేటర్లలో ఉపయోగించే అల్యూమినియం హైడ్రాక్సైడ్ యొక్క అశుద్ధత ప్రమాణాన్ని మించిందా? వెట్ డీప్ ప్యూరిఫికేషన్ టెక్నాలజీ ppm స్థాయి అశుద్ధ నియంత్రణను సాధించింది మరియు సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ ధృవీకరణను ఆమోదించింది!

2. ఇన్ సిటు వెట్ సవరణ ప్రక్రియ: పరమాణు స్థాయి ఇంటర్‌ఫేస్ అనుకూలతను సాధించడం

-అల్టిమేట్ ఎన్‌క్యాప్సులేషన్ సామర్థ్యం: మాడిఫైయర్ కణాల ఉపరితలంపై ఉన్న హైడ్రాక్సిల్ సమూహాలతో రసాయన ప్రతిచర్యకు లోనవుతుంది, దీని ఫలితంగా ఎన్‌క్యాప్సులేషన్ రేటు 98% (పొడి ప్రక్రియలో కేవలం 30%తో పోలిస్తే), యాక్టివేషన్ ఇండెక్స్ ≥ 99%, పెరిగిన నీటి సంపర్క రేటు మరియు 118 ° ≤ తేమ కోణం 0.06%;

-అద్భుతమైన వ్యాప్తి: సవరించిన కణాలు పాలిమర్ మ్యాట్రిక్స్‌లో 99% వ్యాప్తి ఏకరూపతను కలిగి ఉంటాయి, మొత్తం నిష్పత్తి ≤ 1%. ఇది అదనపు డిస్పర్సెంట్ల అవసరం లేకుండా స్థానిక కణ స్థాయి వ్యాప్తిని సాధించగలదు మరియు కరిగే ప్రవాహం రేటు 30% పెరిగింది;

-పర్యావరణ అనుకూలమైన మరియు కాలుష్య రహిత ప్రక్రియ: మొత్తం ప్రక్రియ ధూళి కాలుష్యం లేకుండా సజల ద్రావణంలో జరుగుతుంది. మాడిఫైయర్ యొక్క వినియోగ రేటు 60% పెరిగింది మరియు బయోడిగ్రేడేషన్ రేటు ≥ 95%, ఇది ISO 14064 కార్బన్ ఫుట్‌ప్రింట్ సర్టిఫికేషన్ యొక్క అవసరాలను తీరుస్తుంది.

3. మైక్రో ఇంటర్‌ఫేస్ పరిమిత స్ఫటికీకరణ నమూనా: కణ పరిమాణం పంపిణీ యొక్క ఖచ్చితమైన నియంత్రణ

-కణ పరిమాణం పరిధి యొక్క పూర్తి కవరేజ్: అనుకూలీకరించదగిన కణ పరిమాణం పరిధి 0.3-10μm, కోర్ ఉత్పత్తి D50 0.8-1.5μm మరియు స్పాన్ విలువ ≤ 0.8 (పరిశ్రమ సగటు ≥ 1.2), D90/D10≤2.3 మధ్య నియంత్రించబడుతుంది, కణ పరిమాణం చాలా ఇరుకైనది;

-ఫిల్లింగ్ పనితీరు యొక్క ఆప్టిమైజేషన్: ఇరుకైన కణ పరిమాణం పంపిణీ కణాల గట్టి ప్యాకింగ్‌ను సాధిస్తుంది, ఫిల్లింగ్ సాంద్రతను 35% పెంచుతుంది. అదే అదనపు మొత్తంలో, మిశ్రమ పదార్థం యొక్క మొత్తం ఉష్ణ విడుదల (THR) 27% తగ్గింది మరియు అవశేష కార్బన్ రేటు 21.3%కి పెరిగింది;

-బలమైన ప్రాసెసింగ్ అనుకూలత: ఫిల్మ్ ఎక్స్‌ట్రాషన్, ప్రెసిషన్ ఇంజెక్షన్ మోల్డింగ్ మరియు హై-ఎండ్ కోటింగ్‌లు, అసమాన కణ పరిమాణం వల్ల ఏర్పడే ఉపరితల లోపాలను నివారించడం మరియు ఉత్పత్తి అర్హత రేటును 99.8%కి పెంచడం వంటి విభిన్న ప్రాసెసింగ్ దృశ్యాలకు అనుకూలం.

4. మల్టీ ఫంక్షనల్ సవరించిన సిస్టమ్: అన్ని దృష్టాంత అనువర్తనాల అవసరాలను తీర్చడానికి స్వీకరించబడింది

-Silane titanate మిశ్రమ సవరణ: పాలియోల్ఫిన్ మరియు EVA సిస్టమ్‌లకు అనుకూలం, ఇంటర్‌ఫేస్ కోత బలం 2.8 రెట్లు పెరిగింది, తన్యత బలం నిలుపుదల రేటు 60% నింపి మొత్తంలో ≥ 93% మరియు ప్రభావ బలం 42% పెరిగింది;

-సేంద్రీయ భాస్వరం సినర్జిస్టిక్ సవరణ: ఎపోక్సీ రెసిన్ మరియు పాలియురేతేన్ సిస్టమ్‌లకు అనుగుణంగా, జ్వాల రిటార్డెంట్ సామర్థ్యం 25% పెరిగింది మరియు 32% అదనపు మొత్తం UL94 V-0 స్థాయికి చేరుకుంటుంది, మార్పు చేయని ఉత్పత్తులతో పోలిస్తే పూరించే మొత్తాన్ని 23% తగ్గిస్తుంది;

-పేరెంట్ బ్లాక్ కోపాలిమర్ పూత: తక్కువ/అధిక ఉష్ణోగ్రత సైక్లింగ్ దృశ్యాలకు అనుకూలం. -40 ℃ నుండి 120 ℃ వరకు 100 థర్మల్ సైకిల్స్ తర్వాత, ఇంటర్‌ఫేస్ పీల్ స్ట్రెంగ్త్ అటెన్యుయేషన్ రేట్ 8% కంటే తక్కువగా ఉంటుంది, ఇది కొత్త ఎనర్జీ వెహికల్స్ యొక్క తీవ్రమైన పర్యావరణ అవసరాలను తీరుస్తుంది.

శోధన అనుసరణ: అధిక నింపే ATH మెటీరియల్ పెళుసుదనానికి కారణమవుతుందా? వెట్ కాంపోజిట్ మోడిఫికేషన్ టెక్నాలజీ 93% మెకానికల్ లక్షణాలను నిలుపుకుంటూ 60% ఫిల్లింగ్ మొత్తాన్ని సాధిస్తుంది, జ్వాల రిటార్డెన్సీ మరియు దృఢత్వం యొక్క విజయ-విజయం పరిస్థితిని సాధిస్తుంది!

5. ఫోటోవోల్టాయిక్ ఎలక్ట్రోలైటిక్ అల్యూమినియం హైడ్రాక్సైడ్ జీరో కార్బన్ పరిశ్రమ గొలుసు: కార్బన్ పాదముద్ర యొక్క అంతిమ తగ్గింపు

"ఫోటోవోల్టాయిక్ ఎలెక్ట్రోలైటిక్ అల్యూమినియం హైడ్రాక్సైడ్" యొక్క సున్నా కార్బన్ ఉత్పత్తి వ్యవస్థను రూపొందించడం, ఎలక్ట్రోలైటిక్ అల్యూమినియం మరియు వెట్ సింథసిస్ ప్రక్రియలను నడపడానికి ఫోటోవోల్టాయిక్ శక్తిని ఉపయోగించి, పూర్తి లైఫ్‌సైకిల్ కార్బన్ పాదముద్రతో కేవలం 0.32 tCO ₂/t ఉత్పత్తులు, బొగ్గు ఆధారిత శక్తి కంటే చాలా తక్కువ. యూరోపియన్ యూనియన్ కార్బన్ బోర్డర్ అడ్జస్ట్‌మెంట్ మెకానిజం (CBAM) యొక్క సమ్మతి ధృవీకరణ ద్వారా, వినియోగదారుల ఉత్పత్తులను అడ్డంకులు లేకుండా యూరోపియన్ మార్కెట్‌లోకి ప్రవేశించడంలో ఇది సహాయపడుతుంది.

అప్లికేషన్ దృశ్యాలు

1. ఎలక్ట్రానిక్ సిరామిక్స్ మరియు ఎలక్ట్రానిక్ ప్యాకేజింగ్: హై ఎండ్ డొమెస్టిక్ రీప్లేస్‌మెంట్ ఆఫ్ కోర్ మెటీరియల్స్

-అప్లికేషన్ దృశ్యాలు: మల్టీ లేయర్ సిరామిక్ కెపాసిటర్లు (MLCC), ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్ సబ్‌స్ట్రేట్‌లు, సెమీకండక్టర్ పాలిషింగ్ మెటీరియల్స్, LED ప్యాకేజింగ్ అడెసివ్‌లు;

-కోర్ విలువ: 99.996% అధిక స్వచ్ఛత మరియు ppm స్థాయి అపరిశుభ్రత నియంత్రణ, సిరామిక్ సింటరింగ్ సాంద్రత మరియు స్థిరమైన విద్యుద్వాహక లక్షణాలను నిర్ధారిస్తుంది, విద్యుద్వాహక స్థిరాంకం ≤ 2.8, ఇన్సులేషన్ నిరోధకత ≥ 10 ¹⁴Ω· cm, దిగుమతి చేసుకున్న అధిక-స్థాయి మార్కెట్‌తో 5% కంటే ఎక్కువ దేశీయ ఉత్పత్తి ప్రత్యామ్నాయం

-MLCCలో ఉపయోగించే అల్యూమినియం హైడ్రాక్సైడ్ స్వచ్ఛత సరిపోదా? తడి ప్రక్రియ ఉత్పత్తి 99.996% స్వచ్ఛత, తక్కువ సోడియం మరియు తక్కువ సిలికాన్, బహుళ-పొర సిరామిక్ కెపాసిటర్ల ఉత్పత్తి అవసరాలను తీరుస్తుంది!

2. కొత్త శక్తి వాహనాలు మరియు లిథియం బ్యాటరీలు: బ్యాటరీ భద్రత మరియు పనితీరుకు భరోసా

-అప్లికేషన్ దృశ్యాలు: లిథియం బ్యాటరీ సెపరేటర్ కోటింగ్, పవర్ బ్యాటరీ ప్యాక్ ఇన్సులేషన్ లేయర్, కొత్త ఎనర్జీ వెహికల్ వైరింగ్ జీను, ఫోటోవోల్టాయిక్ కేబుల్;

-కోర్ విలువ: నానో స్కేల్ వెట్ ప్రాసెస్ అల్యూమినియం హైడ్రాక్సైడ్ మెమ్బ్రేన్ కోటింగ్ మెటీరియల్‌గా 180 ℃ కంటే ఎక్కువ ఉష్ణోగ్రత నిరోధకతతో పొరల యొక్క ఉష్ణ స్థిరత్వం మరియు పంక్చర్ బలాన్ని పెంచుతుంది; కొత్త శక్తి నిర్దిష్ట మోడల్ అధిక ఉష్ణ వాహకతను కలిగి ఉంది (≥1.3W/(m·K)), బ్యాటరీ ఉష్ణోగ్రత పెరుగుదలను సమర్థవంతంగా తగ్గిస్తుంది. బ్యాటరీ థర్మల్ రన్‌అవే డిఫ్యూజన్ టెస్టింగ్ ద్వారా, ఇది CATL మరియు BYDలకు పెద్దమొత్తంలో సరఫరా చేయబడుతుంది;

3. వైర్లు, కేబుల్స్ మరియు జ్వాల-నిరోధక రబ్బరు: సమర్థవంతమైన, పర్యావరణ అనుకూలమైన మరియు అప్‌గ్రేడ్ చేసిన ఫ్లేమ్ రిటార్డెంట్

-అప్లికేషన్ దృశ్యాలు: తక్కువ పొగ హాలోజన్ లేని కేబుల్ మెటీరియల్స్, రైల్ ట్రాన్సిట్ ఇంటీరియర్స్, హై-ఎండ్ రబ్బర్ ఉత్పత్తులు, ఫ్లేమ్ రిటార్డెంట్ ఫిల్మ్‌లు;

-కోర్ విలువ: సిటు వెట్ మోడిఫైడ్ ఉత్పత్తులు EVA మరియు PP వంటి సబ్‌స్ట్రేట్‌లతో అద్భుతమైన అనుకూలతను కలిగి ఉంటాయి, 60% ఫిల్లింగ్ మొత్తంతో కూడా మంచి సౌలభ్యాన్ని కలిగి ఉంటాయి. తన్యత బలం నిలుపుదల రేటు ≥ 93%, దహన సమయంలో తక్కువ పొగ సాంద్రతతో IEC 60332-3C యొక్క కఠినమైన జ్వాల రిటార్డెంట్ ప్రమాణానికి అనుగుణంగా ఉంటుంది మరియు EN45545-2:2025 రైలు రవాణా తక్కువ పొగ మరియు తక్కువ విషపూరిత ప్రమాణం;

4. హై ఎండ్ పూతలు మరియు నిర్మాణ వస్తువులు: బ్యాలెన్సింగ్ పనితీరు మరియు పర్యావరణ పరిరక్షణ

-అప్లికేషన్ దృశ్యాలు: A-స్థాయి అగ్నినిరోధక పూతలు, పాలిమర్ సిమెంట్ జలనిరోధిత పూతలు, అధిక-ముగింపు అలంకరణ పూతలు, జ్వాల-నిరోధక ఇన్సులేషన్ బోర్డులు;

-కోర్ విలువలు: అధిక తెల్లదనం (L≥97), సులభంగా వ్యాప్తి చెందడం, అవక్షేపణ లేయర్ లేదు, బ్రష్ గుర్తులు లేకుండా మృదువైన నిర్మాణం, రెసిన్‌తో అద్భుతమైన అనుకూలత, GB 8624 బిల్డింగ్ ఫైర్ ప్రొటెక్షన్‌కు అనుగుణంగా 1 స్థాయి మెరుగుపడిన పూత సంశ్లేషణ A-స్థాయి ప్రమాణం, తక్కువ VOC ఉద్గారాలు మరియు ECt1plus సర్టిఫికేషన్ జర్మన్ పర్యావరణం

5. ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ మరియు ఉత్ప్రేరకం మద్దతు: అధిక విలువ-జోడించిన ఫీల్డ్‌లకు విస్తరించడం

-అప్లికేషన్ దృశ్యాలు: సెమీకండక్టర్ వేఫర్ పాలిషింగ్, నీలమణి సబ్‌స్ట్రేట్ ప్రాసెసింగ్, రసాయన ఉత్ప్రేరకం క్యారియర్లు;

-కోర్ విలువలు: ఏకరీతి క్రిస్టల్ పదనిర్మాణం, ఇరుకైన కణ పరిమాణం పంపిణీ, పరమాణు స్థాయి పాలిషింగ్ ఖచ్చితత్వం, ఉత్ప్రేరక మద్దతు యొక్క స్థిరమైన నిర్దిష్ట ఉపరితల వైశాల్యం, యాక్టివ్ కాంపోనెంట్ లోడింగ్ యొక్క ఏకరూపతలో 30% మెరుగుదల, పదార్థ శుద్ధీకరణ కోసం హై-ఎండ్ తయారీ అవసరాలను తీర్చడం.

తరచుగా అడిగే ప్రశ్నలు (FAQ)

Q1: వెట్ ప్రాసెస్ అల్యూమినియం హైడ్రాక్సైడ్ మరియు డ్రై ప్రాసెస్ అల్యూమినియం హైడ్రాక్సైడ్ మధ్య తేడా ఏమిటి?

A1: వ్యత్యాసం: ① స్వచ్ఛత: తడి ATH స్వచ్ఛత ≥ 99.99%, మొత్తం మలినాలు ≤ 5ppm, పొడి ATH స్వచ్ఛత దాదాపు 99.5%; ② క్రిస్టల్ నిర్మాణం: తడి ప్రక్రియ ATH క్రిస్టల్ నిర్మాణం క్రమబద్ధంగా మరియు స్థిరంగా ఉంటుంది, అయితే పొడి ప్రక్రియ ATH క్రిస్టల్ నిర్మాణం సక్రమంగా ఉంటుంది మరియు విస్తృత కణ పరిమాణం పంపిణీని కలిగి ఉంటుంది; ③ అడాప్టబిలిటీ: వెట్ ATH ఎలక్ట్రానిక్స్ మరియు మెడికల్ వంటి హై-ఎండ్ ఫీల్డ్‌లకు అనుకూలంగా ఉంటుంది, అయితే పొడి ATH సాధారణ రబ్బరు, బిల్డింగ్ మెటీరియల్స్ మరియు ఇతర ఫీల్డ్‌లకు మాత్రమే సరిపోతుంది.

మీరు వెట్ ప్రాసెస్ అల్యూమినియం హైడ్రాక్సైడ్ లేదా సెమీకండక్టర్ నిర్దిష్ట తడి ప్రక్రియ ATH కోసం చూస్తున్నట్లయితే, Taixing మీ ఉత్తమ భాగస్వామిగా ఉంటుంది మరియు మేము అతి తక్కువ ధర సహకారాన్ని అందిస్తాము!