మెగ్నీషియం హైడ్రాక్సైడ్ (Mg(OH)₂)పాలీప్రొఫైలిన్, పాలిథిలిన్ మరియు నైలాన్ వంటి పాలిమర్‌లలో పర్యావరణ అనుకూల అకర్బన జ్వాల రిటార్డెంట్‌గా విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది. అయినప్పటికీ, ప్లాస్టిక్ మ్యాట్రిక్స్‌లో దాని వ్యాప్తి ఏకరూపత నేరుగా జ్వాల రిటార్డెంట్ సామర్థ్యం, యాంత్రిక లక్షణాలు మరియు మిశ్రమ పదార్థం యొక్క ప్రాసెసింగ్ స్థిరత్వాన్ని ప్రభావితం చేస్తుంది. ఈ కథనం ఇంటర్ఫేస్ అనుకూలత, సంకలన విధానం మరియు ప్రాసెసింగ్ గతిశాస్త్రం యొక్క దృక్కోణాల నుండి మెగ్నీషియం హైడ్రాక్సైడ్ యొక్క వ్యాప్తిని మెరుగుపరచడానికి వృత్తిపరమైన పరిష్కారాలను క్రమపద్ధతిలో అన్వేషిస్తుంది.
మెగ్నీషియం హైడ్రాక్సైడ్ కణాలు అధిక ఉపరితల ధ్రువణత మరియు బలమైన హైడ్రోఫిలిసిటీని కలిగి ఉంటాయి, అయితే హైడ్రోఫోబిక్ పాలిమర్‌లతో పేలవమైన అనుకూలత మరియు వాన్ డెర్ వాల్స్ శక్తుల కారణంగా ద్వితీయ సంగ్రహానికి గురవుతాయి. కంకరలు స్ట్రెస్ డిఫెక్ట్ పాయింట్‌లుగా మారడమే కాకుండా, జ్వాల రిటార్డెంట్ గ్యాస్ విడుదల సామర్థ్యాన్ని అడ్డుకుంటుంది, ఇది సిస్టమ్ యొక్క ఆక్సిజన్ సూచికలో తగ్గుదలకు దారితీస్తుంది. వ్యాప్తిని మెరుగుపరచడం యొక్క సారాంశం కణాల మధ్య పరస్పర శక్తిని తగ్గించడం, కణాలు మరియు మాతృక మధ్య ఇంటర్ఫేస్ బంధాన్ని మెరుగుపరచడం మరియు సముదాయాల విచ్ఛిన్నం మరియు సంకలనాన్ని సాధించడానికి ప్రాసెసింగ్ షీర్ ఫోర్స్‌ను ఉపయోగించడం.
మెగ్నీషియం హైడ్రాక్సైడ్‌ను చికిత్స చేయడానికి అమైనో సిలేన్ (KH-550 వంటివి) లేదా మెర్‌కాప్టో సిలేన్‌ను ఉపయోగించడం వలన దాని ఉపరితలంపై హైడ్రోఫోబిక్ పొర ఏర్పడుతుంది. సిలేన్ యొక్క జలవిశ్లేషణ తరువాత, Si-OH ఉపరితల హైడ్రాక్సిల్ సమూహాల Mg (OH) ₂తో ఘనీభవించి Si-O-Mg సమయోజనీయ బంధాలను ఏర్పరుస్తుంది, ఇది ఉపరితల శక్తిని గణనీయంగా తగ్గిస్తుంది. అంటుకట్టుట రేటు 60% మించి ఉన్నప్పుడు, PPలో మెగ్నీషియం హైడ్రాక్సైడ్ యొక్క వ్యాప్తి పరిమాణాన్ని> 10μm నుండి 1-2μm వరకు తగ్గించవచ్చని పరిశోధనలో తేలింది.
స్టెరిక్ యాసిడ్ మరియు ఒలేయిక్ యాసిడ్ వంటి కొవ్వు ఆమ్లాలు కార్బాక్సిల్ సమూహాల ద్వారా మెగ్నీషియం హైడ్రాక్సైడ్ యొక్క ఉపరితలంతో రసాయన శోషణకు లోనవుతాయి మరియు పొడవైన కార్బన్ గొలుసులు స్టెరిక్ అడ్డంకిని అందిస్తాయి. టైటానియం మరియు అల్యూమినియం ఈస్టర్ కప్లింగ్ ఏజెంట్లను ఉపయోగించడం మరింత అధునాతన పద్ధతి, దీని పరమాణు నిర్మాణం ఏకకాలంలో అకర్బన మరియు సేంద్రీయ దశలు రెండింటినీ కలపవచ్చు మరియు కరిగే ప్రవాహాన్ని మెరుగుపరచడానికి కణాల ఉపరితలంపై ఒక సేంద్రీయ మోనోలేయర్‌ను ఏర్పరుస్తుంది.
ఇన్-సిటు పాలిమరైజేషన్ లేదా గ్రాఫ్టింగ్ రియాక్షన్ ద్వారా, మెగ్నీషియం హైడ్రాక్సైడ్ ఉపరితలంపై మాట్రిక్స్ రెసిన్ (పాలీయాక్రిలేట్, మాలిక్ అన్‌హైడ్రైడ్ గ్రాఫ్టెడ్ పాలీయోలిఫిన్ వంటివి) పోలి లేదా అనుకూలమైన పాలిమర్ చెయిన్‌లు ప్రవేశపెట్టబడతాయి. ఈ పద్ధతి థర్మల్ ఎక్స్‌పాన్షన్ కోఎఫీషియంట్స్‌లో తేడాల వల్ల కలిగే ఇంటర్ఫేస్ ఒత్తిడిని తగ్గించడానికి "ఫ్లెక్సిబుల్ ఇంటర్ఫేస్ లేయర్"ని నిర్మించగలదు.
కో రొటేటింగ్ ట్విన్-స్క్రూ ఎక్స్‌ట్రూడర్‌ని ఉపయోగించి, పిసికి కలుపు తీయడం బ్లాక్‌లు, టూత్డ్ డిస్క్‌లు మరియు ఇతర భాగాలను కలపడం ద్వారా అధిక శక్తి కలిగిన షీర్ ఫీల్డ్ నిర్మించబడుతుంది. స్క్రూ కాన్ఫిగరేషన్‌ని ఆప్టిమైజ్ చేయడం వల్ల మెటీరియల్‌ని కంప్రెషన్ షీర్ రీడిస్ట్రిబ్యూషన్ యొక్క బహుళ సైకిల్స్‌కు గురి చేస్తుంది. అచ్చుకు ముందు స్టాటిక్ మిక్సర్‌ను జోడించడం వలన కరిగే ఉష్ణోగ్రత మరియు ప్రవాహం రేటు యొక్క అసమానతను మరింత తొలగించవచ్చు.
కొన్ని జోడించండిమెగ్నీషియం హైడ్రాక్సైడ్సైడ్ ఫీడింగ్ పోర్ట్ నుండి ఒకేసారి రెసిన్‌తో కలపడాన్ని నివారించడానికి, ఇది తగినంత కోత శక్తికి దారితీయవచ్చు. గ్రౌండింగ్ డిస్క్ రకం అల్ట్రాసోనిక్ ఎక్స్‌ట్రూషన్ పరికరాన్ని ఉపయోగించడం ద్వారా మరియు కంకరలను విచ్ఛిన్నం చేయడానికి పుచ్చు ప్రభావాన్ని ఉపయోగించడం ద్వారా, చెదరగొట్టబడిన దశ యొక్క పరిమాణాన్ని 30% కంటే ఎక్కువ తగ్గించవచ్చు.
మెగ్నీషియం హైడ్రాక్సైడ్ 340℃ పైన కుళ్ళిపోవడం ప్రారంభమవుతుంది, కాబట్టి ప్రాసెసింగ్ ఉష్ణోగ్రత ఈ థ్రెషోల్డ్ కంటే తక్కువగా ఉండాలి కానీ రెసిన్ యొక్క పూర్తి ద్రవీభవన ఉష్ణోగ్రత కంటే ఎక్కువగా ఉండాలి. PP సిస్టమ్ కోసం, ఉపరితల మాడిఫైయర్ డిటాచ్‌మెంట్‌కు కారణమయ్యే అధిక ఉష్ణోగ్రతను నివారించడానికి బారెల్ ఉష్ణోగ్రతను 180-200-190℃ (డై హెడ్)లో సెట్ చేయాలని సిఫార్సు చేయబడింది.
0.2-0.8% పాలిమర్ డిస్పర్సెంట్ (పాలీఇథిలిన్ గ్లైకాల్ పాలీప్రొఫైలిన్ గ్లైకాల్ బ్లాక్ కోపాలిమర్ వంటివి) జోడించడం వల్ల కరిగే చిక్కదనాన్ని తగ్గించవచ్చు మరియు పార్టికల్ చెమ్మగిల్లడాన్ని ప్రోత్సహిస్తుంది. హైపర్‌బ్రాంచ్డ్ పాలిమర్‌లు వాటి గోళాకార త్రిమితీయ నిర్మాణం కారణంగా గణనీయమైన స్టెరిక్ అవరోధాన్ని ప్రదర్శిస్తాయి, తిరిగి అగ్రిగేషన్‌ను నిరోధిస్తాయి.
"కోర్-షెల్" లేదా "సీ ఐలాండ్" నిర్మాణాన్ని ఏర్పరచడానికి పోరస్ నానో సిలికా లేదా కార్బన్ నానోట్యూబ్‌లపై కొంత మెగ్నీషియం హైడ్రాక్సైడ్‌ను లోడ్ చేయడం దాని స్టాకింగ్ పద్ధతిని మార్చగలదు మరియు మాతృకలో మరింత ఏకరీతి పంపిణీ నెట్‌వర్క్‌ను ఏర్పరుస్తుంది.
జింక్ బోరేట్ మరియు లేయర్డ్ సిలికేట్‌ల వంటి సినర్జిస్ట్‌లతో సమ్మేళనం చేసినప్పుడు, ప్రతి భాగం యొక్క సాంద్రత మరియు కణ పరిమాణాన్ని సరిపోల్చడం పట్ల శ్రద్ధ వహించాలి. సాంద్రత వ్యత్యాసాల వల్ల ఏర్పడే దశ విభజనను నివారించడానికి మదర్ పార్టికల్ ప్రీ డిస్పర్షన్ ప్రక్రియను ఉపయోగించాలి.
·డిస్పర్షన్ క్వాంటిఫికేషన్: ఏరియా వెయిటెడ్ సరాసరి కణ పరిమాణాన్ని లెక్కించేందుకు ImageJ సాఫ్ట్‌వేర్‌తో కలిపిన SEM చిత్రాలు; ఇంటర్ఫేస్ లేయర్ మందం యొక్క TEM పరిశీలన.
·రీయోలాజికల్ క్యారెక్టరైజేషన్: డైనమిక్ ఫ్రీక్వెన్సీ స్కానింగ్‌లో, తక్కువ-ఫ్రీక్వెన్సీ పరిధిలోని స్టోరేజ్ మాడ్యులస్ (G ') వాలు పూరక నెట్‌వర్క్ నిర్మాణాన్ని ప్రతిబింబిస్తుంది; కోల్ కోల్ ప్లాట్‌లో ఒకే సెమిసర్కిల్ కనిపించడం మంచి వ్యాప్తిని సూచిస్తుంది.
·పనితీరు సహసంబంధ విశ్లేషణ: పరిమిత ఆక్సిజన్ సూచిక (LOI) తన్యత విభాగం యొక్క ఫ్రాక్టల్ పరిమాణంతో సానుకూలంగా సంబంధం కలిగి ఉంటుంది; హాట్ వైర్ (GWT) యొక్క మండే ఉష్ణోగ్రత నేరుగా వ్యాప్తి యొక్క ఏకరూపతకు సంబంధించినది.
యొక్క డిస్పర్సిబిలిటీని మెరుగుపరచడంమెగ్నీషియం హైడ్రాక్సైడ్ప్లాస్టిక్‌లలో అనేది ఒక క్రమబద్ధమైన ప్రాజెక్ట్, దీనికి మూడు కోణాలను పరిగణనలోకి తీసుకోవడం అవసరం: ఉపరితల థర్మోడైనమిక్ సవరణ, ప్రాసెసింగ్ రియాలజీ నియంత్రణ మరియు ఫార్ములేషన్ కో డిజైన్. ప్రాసెసింగ్ సమయంలో ఏకకాల ఉపరితల మార్పు మరియు వ్యాప్తిని సాధించడానికి రియాక్టివ్ మల్టీఫంక్షనల్ సంకలనాలను అభివృద్ధి చేయడం భవిష్యత్ ధోరణి. పై సమగ్ర వ్యూహాల ద్వారా, మెగ్నీషియం హైడ్రాక్సైడ్ ఫ్లేమ్ రిటార్డెంట్ ప్లాస్టిక్‌ల యొక్క మెకానికల్ రిటెన్షన్ రేట్ మరియు ఫ్లేమ్ రిటార్డెంట్ సామర్థ్యాన్ని గణనీయంగా మెరుగుపరచవచ్చు, ఇది అధిక-పనితీరు గల క్షేత్రాలలో హాలోజన్-రహిత జ్వాల రిటార్డెంట్ పదార్థాల అనువర్తనాన్ని ప్రోత్సహిస్తుంది.
